资料分类 > 数据手册 > Flash > 适用于 5 nm 及以下节点的多重曝光选项：SADP、SAQP、SALELE

适用于 5 nm 及以下节点的多重曝光选项：SADP、SAQP、SALELE  20200916133521.pdf

资料格式：.pdf 上 传 者： ccf 下载次数：742
上传时间：2020-09-16 13:09:59  资料大小：944.96 KB

说明：

鉴于传统的光刻-蚀刻多重曝光工艺存在对齐控制的问题，不论使用哪种光刻技术，自对齐多重曝光工艺都已成为最先进工艺的必要条件。通过详细的分步说明，帮助您了解 SADP、SAQP 和 SALELE 工艺。

下载说明：

（1）本站内所有资料仅限学习、交流，禁止用于任何商业用途！
（2）如果发现该资料不能下载或链接错误，请点击报告错误，谢谢！
（3）站内提供的资料均来自网络以及注册用户自行上传，若侵犯了您的权益，敬请来信通知我们！
（4）若您的资料希望能与大家分享，我们愿意和您一起宣传！投稿请点击这里。
（5）推荐使用网通网络，不要使用校园网络。本站不支持多线程下载。

[上一篇：] XML约束文件：编写可靠性规则和检查的更好方法
[下一篇：] MaxLinear和 Calibre RealTime Digital：P＆R 中的Signoff DRC